Razvrstavanje kemijskim taloženjem para
Postoje mnoge metode kemijskog taloženja isparenja, kao što su CVD atmosferskog tlaka (APCVD), CVD niskog tlaka (LPCVD), visokotlačni vakuumski CVD (UHVCVD), lasersko taloženje isparavanja laserom (LCVD), metalno-organsko taloženje isparavanja metala (MOCVD) , kemijsko taloženje pojačanog isparavanja u plazmi (PECVD) itd.
